原标题:国产新打破 北方华创正式对外发布 CCP 介质刻蚀机,完结刻蚀工艺全掩盖
因为美国的制裁,国产半导体范畴在最近最近几年可谓是日新月异,在许多范畴都取得了新打破。而就在今日,依据北方华创官方大众号的音讯,在今日,北方华创正式对外发布 CCP 介质刻蚀机,与此同时,北方华创现在现已与 5 家客户完结验证并完结量产。而在此前北方华创就现已推出了 ICP 刻蚀机、金属刻蚀机等,今日发布的CCP 介质刻蚀机之后,北方华创正式完结刻蚀工艺全掩盖。
北方华创 表明NMC508RIE介质刻蚀机的推出,完结了该范畴国产设备工艺的最终一块拼图,完结了北方华创在 8 吋刻蚀设备上的全体解决方案,包含硅刻蚀、深硅刻蚀、金属刻蚀、化合物半导体刻蚀 (SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO3,LiTaO3等)等工艺设备。 而咱们也期望其他的国产半导体厂商也都能提前完结打破。
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