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特别光刻机，国内尚无先进的技能，出产不了高端的，据网上资料显现，现在只能出产90nm工艺的光刻机，而国际上的芯片现已发展到7nm工艺了，可见距离有多大，最少10来年。
所以去年中芯国际说从ASML收买了一台最先进的光刻机时，网友们都觉得或许国产芯片要兴起了，事实上也是如此，今年中芯国际会量产14/12nm芯片了。
但其实国内在刻蚀机方面，却一向归于国际领先水平，并不比国际水平台。近来，因为科创板的原因，中微半导体设备（上海）股份有限公司正式被许多网友了解了，因为这家公司制造芯片的关键设备--刻蚀机。
这家公司自2004年建立，和华为海思半导体是一年建立的，在2018年现已量产了5nm的刻蚀机，而且已交给台积电验证，在台积电的方案中，将在2020年用于5nm芯片的量产。
而在此之前，中微半导体的7nm刻蚀机已用于台积电的芯片出产中，像麒麟980、高通855、苹果A12芯片因为是台积电代工的，所以必定离不开中微半导体提供给台积电的7nm刻蚀机。
那么光刻机和刻蚀机有啥不一样的差异呢？ 简略的来讲，光刻机是把电路图投影到掩盖有光刻胶的硅片上面。然后再利用刻蚀机再把方才画了电路图的硅片上的剩余电路图腐蚀掉，这样就做成了形成了芯片。
至于为何国内刻蚀机技能这么先进，而光刻机技能这么落后呢？这个我想没多少人可以解说清楚，反正实际就是如此。
不过尽管此公司技能这么强，和别的四家来自美日的泛林、运用资料、东京电子、日立并称为全球五大刻蚀设备巨子，但比例却并不高，比例不到5%，别的四家厂商占了90%以上比例。
但不管怎么样，至少在这一方面咱们不怕他人卡脖子，就是好事情，比例再少，只需国产芯片可以兴起，国内芯片企业多收买，就必定可以发展起来，你觉得呢？